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原位高溫XRD衍射反應裝置適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。該裝置采用環境場加熱方式，可提供0.1Mpa或低真空的氣氛環境，整體水冷系統的設計確保裝置的正常運行并不會對衍射儀產生影響。裝置加熱元件采用鉑絲，并設計有保溫結構，能大幅度降低裝置的功耗。窗口采用Kapton膜，對特征峰的采集的影響盡可能的降低。裝置X射線的采集角度達到160°。該裝置使用宇電儀表進行控溫，可設置20段溫度控制，測溫元件采用K型熱電偶。
| 型號 | HT-XRD-1000 |
| 最高溫度 | 1000℃ |
| 樣品尺寸 | φ10*1mm |
| 裝置尺寸 | φ120*38mm |
| 升溫速率 | 10℃/min |
| 功率 | 600W |
| 電壓 | AC220V 50/60Hz |
| 重量 | 約4kg |
產品型號
原位高溫XRD衍射裝置-500 HT-XRD-500
原位高溫XRD衍射裝置-1000 HT-XRD-1000
具有鋼結構工程專業承包二級資質、建筑工程施工總承包貳級資質；公司主營產品包括重鋼、輕鋼、網架及檁條、彩鋼板等鋼結構產品；近年來，公司承接了國內外大型結構件、橋梁、車庫、標準化廠房等具有較大影響力的一系列項目；產品遠銷白俄羅斯、贊比亞、印尼等國家，得到了一致好評。
關鍵詞： 原位高溫XRD衍射裝置 HT-XRD
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